第三代B4T-5/6/8系列3D-PDI分子合成完毕,同时她也合成了第三代B3T-6系列3D-PDI分子,用来和前期第一、第二代B3T-6系列分子进行对比。
陈婉清看着每天器件效率数据都在稳步上升,她做实验的工作效率直接提高了20+%,PCE10:IDT-ICIN和FTAZ:IDT-ICIN两个体系的表征数据已经凑齐了九成,就差周五的TEM和周六的GIWAXS了。
不过,她这周光忙着做实验了,大多数的数据只是处于原始数据状态,还没来得及处理。
许秋将韩嘉莹合成出来的几种材料复制进模拟实验室II中,开始性能摸索,随后和学妹一起进入实验室,准备光源样品,从在裁硅片开始。
周五一大早。
许秋进入模拟实验室II,查阅结果。
学妹的B4T-8系列3D-PDI受体和PCE10给体搭配下的有机光伏体系的效率最高。
最高值%!
“最高效率还真被爆了啊,还没捂热乎呢。”许秋嘀咕了一句,“不过,至少曾经拥有过。”
许秋心态倒是很轻松,就算学妹做的更高,她发的文章自己也是二作,四舍五入一下,大概就相当于是自己破了自己的记录嘛。
而且对于这个结果他也不是很意外,毕竟学妹的二代6系列效率最高值都已经%了,而现在是三代8系列,后者采用了在许秋体系中颇有成效的两步分子结构优化手段——氮原子位侧链修饰、引入硒原子,效率飙升也很正常。
而且,这次的模拟实验,许秋整合了前期3D-PDI体系的所有器件加工策略,花了整整十二个小时,测试了数百种条件,为的就是一步到位,直接把效率做上去。
换言之,想进一步优化器件加工条件,使得效率向上提升,空间并不大,基本上已经达到了材料的性能上限。
想要进一步提升,除非拓宽给体库或者颠覆现有的涂膜方式。
前者很好理解,但是需要时间积累。
后者的话,指的是研究者们开发出来的特殊涂膜方式,包括许秋之前开发的热旋涂法;还有一些文献中报道的,比如“一层又一层”旋涂法,就是把给体、受体分开旋涂两次;“倒着涂”旋涂法,在旋涂成膜的最后过程中,让基片正面朝下旋转等等……
关于特殊涂膜方式的文章,只有零零星星的三两篇,被报道后几乎没什么模仿者,而且效果看起来也一般。
就比如ACSAMI的一篇文章,用的就是“倒着涂”旋涂法,他们采用的标准PCE10:PCBM体系,正常旋涂得到的器件效率为%,而“倒着涂”之后,效率提升至%,然而这个体系,许秋随随便便做出来的标样效率都在10%以上,所以他总觉
请收藏:https://m.nyzwz.cc
(温馨提示:请关闭畅读或阅读模式,否则内容无法正常显示)